Method of photomasking of photosensitive polyimides with organometal compounds for photolithography processes in silicon technology


Tipo: 
Nacional
Num. Solicitud: 
ES19950000645
Data Solicitut: 
Vie, 1995-03-31 10:00
Num. Publicación: 
ES2146128
Fecha Solicitud: 
Domingo, July 16, 2000 - 10:00
Inventor: 
MUNOZ PASCUAL FRANCISCO J [ES]; DOMINGUEZ HORNA CARLOS [ES]
Solicitante: 
Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Autores del GTQ: 
Num. Prioridad: 
ES19950000645
Priority Date: 
Viernes, March 31, 1995 - 10:00
Publication date: 
Lunes, December 21, 2009 - 10:00
Estado: 
Concedida