Method of photomasking of photosensitive polyimides with organometal compounds for photolithography processes in silicon technology


Tipus: 
Nacional
Num. Solicitut: 
ES19950000645
Data Solicitut: 
Dv, 1995-03-31 10:00
Num. Publicació: 
ES2146128
Data Sol·licitud: 
Diumenge, July 16, 2000 - 10:00
Inventor: 
MUNOZ PASCUAL FRANCISCO J [ES]; DOMINGUEZ HORNA CARLOS [ES]
Sol·licitant: 
Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Autors del GTQ: 
Num. Prioritat: 
ES19950000645
Priority Date: 
Divendres, March 31, 1995 - 10:00
Publication date: 
Dilluns, December 21, 2009 - 10:00
Estat: 
Concedida